新時空訊：普達特科技有限公司（00650.HK）於2026年2月11日發布自願公告，公司已成功向客戶交付一臺12英寸高溫硫酸清洗設備。該設備可應用於28/14/7nm等先進制程的關鍵清洗工藝，技術性能對標海外主流設備，具備國內領先的高溫控制能力。
此外，公司近期還成功向4家客戶交付了5臺單片晶圓清洗設備，用於28nm制程及高性能模擬與功率器件等關鍵領域。公告特別指出，部分訂單爲現有客戶的重復訂單，顯示客戶對公司設備產品的認可。
本次交付標志着普達特科技在由海外供應商主導的半導體清洗設備領域實現了技術突破和市場切入。公司表示，未來將繼續致力於完成訂單交付與驗收，並擴大高質量半導體客戶對其設備的採用。
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